Mono- and Multi-crystalline wafer lifetime measurement device
應(yīng)用范圍:用于精密材料研發(fā)的單晶和多晶片的壽命測(cè)量
靈敏度:外延片不可見(jiàn)的缺陷和檢測(cè)的 靈敏度的可視化 測(cè)量速度:6英寸硅晶圓片,1mm分辨率 ,小于5分鐘 使用壽命: 20納秒到幾毫秒 污染測(cè)定:源自爐和設(shè)備的金屬(Fe)污染 測(cè)量能力:從初始切割的晶圓片到完全加工的樣品 靈活性:固定測(cè)量頭允許外部激光與觸發(fā)器耦合 可靠性: 模塊化和緊湊的臺(tái)式儀器,更高的可靠性和正常運(yùn)行時(shí)間> 99% 重現(xiàn)性: > 99.5% 電阻率:不需要頻繁校準(zhǔn)
MDPmap是一個(gè)緊湊的臺(tái)式無(wú)觸點(diǎn)電子特性的離線(xiàn)生產(chǎn)控制或研發(fā)的工具。可測(cè)量參數(shù)如載流子壽命、光電導(dǎo)性、電阻率、缺陷信息在穩(wěn)態(tài)或注入范圍寬短脈沖勵(lì)磁(μ-PCD)。自動(dòng)化的樣品識(shí)別和參數(shù)設(shè)置可以方便地適應(yīng)各種不同的樣品,包括在不同的制備階段,從生長(zhǎng)的晶圓片到高達(dá)95%的金屬化晶圓片的外延片和晶圓片。。 MDPmap的主要優(yōu)點(diǎn)是其高度的靈活性,它允許集成多4個(gè)激光器,用于從低注入到高注入的依賴(lài)于注入水平的壽命測(cè)量,或者使用不同的激光波長(zhǎng)提取深度信息。包括偏置光設(shè)施以及μ-PCD或穩(wěn)態(tài)注入條件的選項(xiàng)。可以使用不同的圖進(jìn)行客戶(hù)定義的計(jì)算,也可以導(dǎo)出原始數(shù)據(jù)進(jìn)行進(jìn)一步的評(píng)估。對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量任務(wù),可用一個(gè)預(yù)定義的標(biāo)準(zhǔn),使常規(guī)測(cè)量只需按一個(gè)按鈕。
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Mono- and Multi-crystalline wafer lifetime measurement device
應(yīng)用范圍:用于精密材料研發(fā)的單晶和多晶片的壽命測(cè)量
特性
靈敏度:外延片不可見(jiàn)的缺陷和檢測(cè)的 靈敏度的可視化
測(cè)量速度:6英寸硅晶圓片,1mm分辨率 ,小于5分鐘
使用壽命: 20納秒到幾毫秒
污染測(cè)定:源自爐和設(shè)備的金屬(Fe)污染
測(cè)量能力:從初始切割的晶圓片到完全加工的樣品
靈活性:固定測(cè)量頭允許外部激光與觸發(fā)器耦合
可靠性: 模塊化和緊湊的臺(tái)式儀器,更高的可靠性和正常運(yùn)行時(shí)間> 99%
重現(xiàn)性: > 99.5%
電阻率:不需要頻繁校準(zhǔn)
用于研發(fā)或生產(chǎn)監(jiān)控的靈活檢測(cè)工具
MDPmap是一個(gè)緊湊的臺(tái)式無(wú)觸點(diǎn)電子特性的離線(xiàn)生產(chǎn)控制或研發(fā)的工具。可測(cè)量參數(shù)如載流子壽命、光電導(dǎo)性、電阻率、缺陷信息在穩(wěn)態(tài)或注入范圍寬短脈沖勵(lì)磁(μ-PCD)。自動(dòng)化的樣品識(shí)別和參數(shù)設(shè)置可以方便地適應(yīng)各種不同的樣品,包括在不同的制備階段,從生長(zhǎng)的晶圓片到高達(dá)95%的金屬化晶圓片的外延片和晶圓片。。
MDPmap的主要優(yōu)點(diǎn)是其高度的靈活性,它允許集成多4個(gè)激光器,用于從低注入到高注入的依賴(lài)于注入水平的壽命測(cè)量,或者使用不同的激光波長(zhǎng)提取深度信息。包括偏置光設(shè)施以及μ-PCD或穩(wěn)態(tài)注入條件的選項(xiàng)。可以使用不同的圖進(jìn)行客戶(hù)定義的計(jì)算,也可以導(dǎo)出原始數(shù)據(jù)進(jìn)行進(jìn)一步的評(píng)估。對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)計(jì)量任務(wù),可用一個(gè)預(yù)定義的標(biāo)準(zhǔn),使常規(guī)測(cè)量只需按一個(gè)按鈕。