實(shí)驗(yàn)室用不銹鋼腔體等離子清洗器

等離子清洗/刻蝕機(jī)產(chǎn)生等離子體的裝置是在密封容器中設(shè)置兩個(gè)電極形成電場(chǎng)，用真空泵實(shí)現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體愈來愈稀薄，分子間距及分子或離子的自由運(yùn)動(dòng)距離也愈來愈長(zhǎng)，受電場(chǎng)作用，它們發(fā)生碰撞而形成等離子體，這些離子的活性很高，其能量足以破壞幾乎所有的化學(xué)鍵，在任何暴露的表面引起化學(xué)反應(yīng)，不同氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性能，如氧氣的等離子體具有很高的氧化性，能氧化光刻膠反應(yīng)生成氣體，從而達(dá)到清洗的效果；腐蝕性氣體的等離子體具有很好的各向異性，這樣就能滿足刻蝕的需要。利用等離子處理時(shí)會(huì)發(fā)出輝光，故稱之為輝光放電處理。
等離子體清洗的機(jī)理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應(yīng)殘余物脫離表面。
等離子體清洗技術(shù)的大特點(diǎn)是不分處理對(duì)象的基材類型，均可進(jìn)行處理，對(duì)金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。
小型等離子清洗機(jī)
PT-5S型是雙路氣體輸入，不銹鋼艙體：Φ150mm×270mm
 容量：5升
供電電源： AC220V
工作電流： 整機(jī)工作電流不大于1.2A(不含真空泵)
射頻電源功率： 300W
射頻頻率： 40KHz或13.56MHz 選裝（偏移量小于0.2KHz）
頻率偏移量： 小于0.2KHz
特性阻抗： 50歐姆，自動(dòng)匹配
真空度： 10Pa—1000Pa
氣體流量： 60—600ml/min(可調(diào))
過程控制： MCU自動(dòng)與手動(dòng)方式
清洗時(shí)間： 1-100分鐘可調(diào)
功率大小 10%-可調(diào)
 外形尺寸： PT-5S型_400x450x250
重量：  36.5Kg
真空泵： 2XZ-4
真空室溫度： 小于65°C
冷卻方式： 強(qiáng)制風(fēng)冷