DWL2000和DWL4000 激光光刻系統(tǒng)是快速及高靈活性的高分辨率圖型發(fā)生器,用于制作掩膜版和可直接于產品上進行激光直寫,
寫入面積高達200x200 mm2,與400x400 mm2 。在二維曝光技術表現*,*低分辨率為500nm,可選配自動加載系統(tǒng),
除了高分辨率的二維圖型之外,還提供灰度曝光模式,可在厚光刻膠中創(chuàng)建復雜的2.5D結構。
產業(yè)應用:MEMS、BioMEMS,微光學、集成電路(ASIC)、微流體、傳感器。
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Stella International攜手光刻技術領航者-海德堡儀器公司,共同為客戶帶來*的綜合應用效能,同時建立緊密的合作伙伴關系。
為了服務客戶更廣泛多元的應用領域,Stella International于 2016年在蘇州成立海德堡儀器演示中心,以海德堡原廠伙伴技術支援,提供客戶技術交流平臺以及各式前段打樣的基礎研究,
這些年來已服務許多的國內大學,研究所與企業(yè)前期研發(fā)單位。
介紹
德國海德堡 高精密無掩膜激光直寫設備 HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM
德國海德堡設備(Heidelberg Instruments),創(chuàng)始于1984年,在激光直寫設備的發(fā)展和設計上,一直是*的。多年以來,系統(tǒng)設備持續(xù)地改良、在各種應用上客制化。
應用范圍包括:微電腦和納米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相關領域。
銷售橫跨歐洲、美國、亞洲等過50幾個*、700個以上銷售據點,用于研發(fā)、快速原型制作和工業(yè)生產系統(tǒng),是企業(yè)研究和發(fā)展的*伙伴。
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DWL2000/ DWL4000
高靈活度與高精度光刻的解決方案
High Resolution Pattern Generators
高靈活度與高精度光刻的解決方案
DWL2000和DWL4000 激光光刻系統(tǒng)是快速及高靈活性的高分辨率圖型發(fā)生器,用于制作掩膜版和可直接于產品上進行激光直寫,
寫入面積高達200x200 mm2,與400x400 mm2 。在二維曝光技術表現*,*低分辨率為500nm,可選配自動加載系統(tǒng),
除了高分辨率的二維圖型之外,還提供灰度曝光模式,可在厚光刻膠中創(chuàng)建復雜的2.5D結構。
產業(yè)應用:MEMS、BioMEMS,微光學、集成電路(ASIC)、微流體、傳感器。
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這些年來已服務許多的國內大學,研究所與企業(yè)前期研發(fā)單位。
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德國海德堡 高精密無掩膜激光直寫設備
HEIDELBERG MASKLESS AND LASER LITHOGRAPHY SYSTEM
德國海德堡設備(Heidelberg Instruments),創(chuàng)始于1984年,在激光直寫設備的發(fā)展和設計上,一直是*的。多年以來,系統(tǒng)設備持續(xù)地改良、在各種應用上客制化。
應用范圍包括:微電腦和納米科技, MEMS, 平面屏幕, BGA, ASICS, TFT, Plasma Displays, Micro Optics, 和其他相關領域。
銷售橫跨歐洲、美國、亞洲等過50幾個*、700個以上銷售據點,用于研發(fā)、快速原型制作和工業(yè)生產系統(tǒng),是企業(yè)研究和發(fā)展的*伙伴。